МИСиС
Оборудование
Правила заказа работ
О нас
ЦКП "Материаловедение и металлургия"
Вход
Регистрация
Back
Установка нанесения биосовместимых покрытий UDP 850/4
Информация
Заказ работы
Производитель:
Teer CoatingsLimited, Великобритания
Вид измерений/испытаний:
Прочие
Тип оборудования:
UDP 850/4
Назначение:
Оборудование для физической обработки материалов
Технические характеристики:
Установка UDP 850/4 производства компании Teer Coatings Limited (Великобритания) предназначена для нанесения упрочняющих покрытий в вакууме на изделия различного назначения (режущий и штамповый инструмент, подшипники, медицинские изделия и др.).
В вакуумной камере установки UDP 850/4 размещены четыре прямоугольных магнетрона с замкнутыми магнитными полями (Сlosed Field Unbalanced Magnetron System — CFUBMS). Использование схемы с замкнутым магнитным полем обеспечивает увеличение степени ионизации газа, повышение соотношения ион/атом в плазменном потоке, приводит к улучшению структуры и свойств покрытий. Для электропитания магнетронов и подачи отрицательного напряжения смещения используются блоки Pinnacle и Pinnacle Plus (Advanced Energy, США) с частотой импульсов в диапазоне 0?350 кГц.
Устройство магнетронов позволяет использовать для распыления не только литые металлические, но и керамические мишени, в том числе изготовленные методом силового СВС-компактирования (TiCx+CaO, TiSix+ZrO2, TiB2+TiN, TiCrxBy и др.) Обрабатываемые изделия помещаются в вакуумную камеру и размещаются на специальной карусели, имеющей две оси вращения. Откачка вакуумной камеры в базовом варианте обеспечивается тремя насосами: диффузионным, бустерным и пластинчато-роторным.
Контроль расхода газов осуществляется автоматической системой с оптическим эмиссионным спектрометром тлеющего разряда. Процесс нанесения покрытий может полностью контролироваться управляющим компьютером по заранее заданной программе.
Технические характеристики: Количество магнетронов 4;Длина/ширина магнетрона 725/134 мм; Тип электропитания магнетрона DC и/или Pulse DC; Максимальная частота в режиме Pulse DC 350 кГц; Максимальная мощность на магнетрон 6 кВт (DC), 5 кВт (DC Pulse); Напряжение смещения (Uсм) 0–1200 В; Частота для Uсм 0–350 кГц
.
Место размещения:
К, К-03
Подразделение:
НУЦ СВС МИСиС-ИСМАН
Контакты:
Лайшева К.А., laisheva@misis.ru, +74959550181
Требуемые квалификации:
Ориентировочная стоимость нормочаса:
Ссылка на прохождение обучения:
-Неделя
Сегодня
+Неделя
Для заказа работы на оборудовании или услуги требуется регистрация!
10:00-11:00
11:00-12:00
12:00-13:00
13:00-14:00
14:00-15:00
15:00-16:00
16:00-17:00
17:00-18:00
18:00-19:00
19:00-20:00
20:00-21:00
21:00-22:00
22:00-23:00
23:00-24:00
0:00-1:00
1:00-2:00
2:00-3:00
3:00-4:00
4:00-5:00
5:00-6:00
6:00-7:00
7:00-8:00
8:00-9:00
9:00-10:00
Пн (апр 22)
Вт (апр 23)
Ср (апр 24)
Чт (апр 25)
Пт (апр 26)
Сб (апр 27)
Вс (апр 28)
Вход
Логин:
Пароль:
Запомнить
Вход