Оборудование МИСиС

Информация

Производитель:	ООО «Авеста» и «ТеТеМ», Россия
Вид измерений/испытаний:	Определение физико-химического состава и свойств веществ
Тип оборудования:	-
Назначение:	Приборы и аппаратура для исследования и анализа поверхности прочие
Технические характеристики:	В комплекс оборудования для послеростовой подготовки поверхности входят: 1. Фемтосекундная система ООО «Авеста» (Россия) Предназначена для импульсного воздействия на образцы световым излучением высокой интенсивности (1010 и более Вт/см2) с целью структурной модификации материала, возбуждения электронной подсистемы, в том числе за счет реализации режима многофотонного поглощения, а также для ассистирования процесса роста тонких пленок методом высокочастотного магнетронного распыления. Технические характеристики: Длины волн излучения: 800 нм, 400 нм и 267 нм Частота повторения до 1 кГц Энергия импульса на первой гармонике >3,5 мДж Длительность импульса < 50 фс 2. Установка плазмохимической обработки «ТеТеМ» (Россия) Источник плазмы предназначен для активизации газовых реакций при пониженном давлении (1...10 Па) и позволяет генерировать ионы рабочего газа плотностью 1011 см^-3. Источник плазмы состоит из трех взаимосвязанных устройств: реактор, ВЧ генератор и газовая система. Газовая система состоит из двух независимых каналов для подачи в зону реакции смеси газа-носителя и рабочего газа-прекурсора. В состав каждого канала входит полный комплект газовых элементов, необходимых для регулирования, управления и контроля газового потока. Подключение дополнительного высокочастотного генератора (и согласующего устройства соответственно) к подложкодержателю, не соединенного с корпусом установки, позволяет независимо от основного источника разряда корректировать энергию ионов.
Место размещения:	К, К-417
Подразделение:	ЦКП "Материаловедение и металлургия"
Контакты:	Марьина Г.
Требуемые квалификации:
Ориентировочная стоимость нормочаса:
Ссылка на прохождение обучения:

Вход

Логин:
Пароль:
	Запомнить